Электронные процессы и их влияние на формирование и свойства слоев SiO₂ на кремнии [[Микроформа]]: Дис. ... канд. физ.-мат. наук: Утв. 22.11.89: (01.04.10)

Сохранено в:
Шифр документа: 0489006299,
Вид документа: Диссертации
Автор: Климов, И. В.
Опубликовано: Л. , 1989
Физические характеристики: 187 с. : ил.
Язык: Русский

ОФХ отдела книгохранения

Всего : 1 , доступно: 1 Доступно  Заказать

Информация об экземплярах

Шифр Фонд Место нахождения Статус экземпляра Читальный зал
0489006299 ОФХ отдела книгохранения (039) 11:4:6:202 СВОБОДЕН Рекомендованный ЧитЗал