Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях: Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов
Enregistré dans:
| Format: | |
|---|---|
| Auteur principal: | Буравлев, А. В. |
| Publié: | Черноголовка , 1992 |
| Description matérielle: |
22 с.
|
| Langue: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Disponible Réserver | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||