Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях: Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Буравлев, А. В. |
| Опубликовано: | Черноголовка , 1992 |
| Физические характеристики: |
22 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||