Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях: Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов

Сохранено в:
Шифр документа: 190529/92,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Буравлев, А. В.
Опубликовано: Черноголовка , 1992
Физические характеристики: 22 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr38129250000
005 20071004153516.0
100 # # $a 20071004d1992 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях  $e Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук  $e (05.27.01)  $f Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов 
210 # # $a Черноголовка  $d 1992 
215 # # $a 22 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 19-22 (8 назв.) 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Буравлев  $b А. В.  $g Александр Валерьевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20071004  $g psbo