Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях: Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Буравлев, А. В. |
Опубликовано: | Черноголовка , 1992 |
Физические характеристики: |
22 с.
|
Язык: | Русский |
00000nam0a22000001ia4500 | |||
001 | BY-NLB-rr38129250000 | ||
005 | 20071004153516.0 | ||
100 | # | # | $a 20071004d1992 y0rusy50 ca |
101 | 0 | # | $a rus |
102 | # | # | $a RU |
200 | 1 | # | $a Стимулированная точечными дефектами твердафазная эпитаксиальная кристаллизация аморфного кремния и перестройка дефектов в ионно-имплантированных слоях $e Автореф. дис. на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук $e (05.27.01) $f Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов |
210 | # | # | $a Черноголовка $d 1992 |
215 | # | # | $a 22 с. |
300 | # | # | $a Библиогр.: с. 19-22 (8 назв.) |
686 | # | # | $a 05.27.01 $2 oksvnk |
700 | # | 1 | $a Буравлев $b А. В. $g Александр Валерьевич |
801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20071004 $g psbo |