Определение профиля концентрации носителей заряда и толщины слоев в многослойных структурах GaAs и InP с помощью контакта электролит-полупроводник: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (01.04.10) / Том. гос. ун-т им. В. В. Куйбышева

Сохранено в:
Шифр документа: 28186/87СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Асанов, О. М.
Опубликовано: Томск , 1987
Физические характеристики: 24 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr36413520000
005 20070810183527.0
100 # # $a 20070810d1987 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Определение профиля концентрации носителей заряда и толщины слоев в многослойных структурах GaAs и InP с помощью контакта электролит-полупроводник  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (01.04.10)  $f Том. гос. ун-т им. В. В. Куйбышева 
210 # # $a Томск  $d 1987 
215 # # $a 24 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 23-24 (10 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Асанов  $b О. М.  $g Олег Михайлович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070810  $g psbo