Физико-химические процессы при ионной имплантации кислорода в молибден, вольфрам, ниобий и тантал: (02.00.04): Автореф. дис на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / Моск. ин-т тонкой хим. технологии им. М. В. Ломоносова
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Алов, Н. В. |
| Опубликовано: | М. , 1987 |
| Физические характеристики: |
24 с. : граф.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||