Исследование условий роста и свойств эпитаксиальных слоев Si, Si{н.инд.}(1-x)Ge{н.инд.}(x), GaP и GaAs, выращенных на Si из жидкой фазы: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.10) / АН УзССР, Физ.-техн. ин-т им. С. В. Стародубцева

Сохранено в:
Шифр документа: 2135/86СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Дадамухамедов, С.
Опубликовано: Ташкент , 1984
Физические характеристики: 21 с.
Язык: Русский

ОФХ отдела книгохранения

Всего : 1 , доступно: 1 Доступно  Заказать

Информация об экземплярах

Шифр Фонд Место нахождения Статус экземпляра Читальный зал
2135/86СК ОФХ отдела книгохранения (039) 11:4:2:66 СВОБОДЕН Рекомендованный ЧитЗал