Исследование количественного состава и свойств ионно-имплантированных слоев Si, GaAs и сплава Pd-Ba методами вторичной электронной спектроскопии: (01.04.04): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / Моск. физ.-техн. ин-т

Сохранено в:
Шифр документа: 125224/90,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Ташатов, А. К.
Опубликовано: М. , 1990
Физические характеристики: 18 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr31896390000
005 20070704192320.0
021 # # $a RU  $b [90-14162а] 
100 # # $a 20070704d1990 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование количественного состава и свойств ионно-имплантированных слоев Si, GaAs и сплава Pd-Ba методами вторичной электронной спектроскопии  $e (01.04.04)  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $f Моск. физ.-техн. ин-т 
210 # # $a М.  $d 1990 
215 # # $a 18 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 16-18 (13 назв.) 
686 # # $a 01.04.04  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Ташатов  $b А. К.  $g Алланазар Каршиевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070704  $g psbo