Применение эпитаксиальной технологии для создания силовых кремниевых диодов: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.27.01) / Взесоюз. электротехн. ин-т им. В. И. Ленина

Сохранено в:
Шифр документа: 5892/86СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Тарма, М. Т.
Опубликовано: Таллин , 1984
Физические характеристики: 22 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr31862680000
005 20070704192002.0
100 # # $a 20070704d1984 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a EE 
200 1 # $a Применение эпитаксиальной технологии для создания силовых кремниевых диодов  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.27.01)  $f Взесоюз. электротехн. ин-т им. В. И. Ленина 
210 # # $a Таллин  $d 1984 
215 # # $a 22 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 20-22 (15 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Тарма  $b М. Т.  $g Майе Тимотхеусовна 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070704  $g psbo