Новолаки на основе 4,4-диоксидифенил-2,2-пропана для систем позитивных фоторезистов: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. хим. наук: (05.17.06) / Моск. химико-технолог. ин-т им. Д. И. Менделеева
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Рабкин, В. С. |
| Опубликовано: | М. , 1992 |
| Физические характеристики: |
15 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||