Исследование дефектообразования в эпитаксиальных структурах полупроводниковых соединений A³B⁵: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра техн. наук: (05.17.16)
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Хашимов, Ф. Р. |
Опубликовано: | М. , 1983 |
Физические характеристики: |
40 с.
|
Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|