Исследование имплантационных профилей и процесса диффузии внедренных ионов методом вторичного ионного микроанадиза: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)
Saved in:
| Format: | |
|---|---|
| Main Author: | Мюллер, Г. |
| Published: | Киев , 1978 |
| Physical Description: |
24 с.
|
| Language: | Russian |
ОФХ отдела книгохранения
| All : 1 , available: 1 | Available Place a Hold | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||