Физико-технические основы технологии эпитаксиальных твердых растворов Al{н.инд.}(x)Ga{н.инд.}(1-x)As для полупроводниковых приборов: Автореф. дис. на соиск. учен. степени канд. техн. наук: (05.12.18)
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Масенко, Б. П. |
| Опубликовано: | Таганрог , 1978 |
| Физические характеристики: |
24 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||