Исследование процессов формирования слоев нитрида кремния на Si (III) и Si (100) при облучении ионами азота низких энергий: Автореф. дис. на соиск. учен. степ канд. физ.-мат. наук: (01.04.07) / АН СССР, Дальневост. отд-ние, Ин-т автоматики и процессов управления

Сохранено в:
Шифр документа: 172676/91,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Котляр, В. Г.
Опубликовано: Владивосток , 1991
Физические характеристики: 17 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr12960550000
005 20070227192507.0
100 # # $a 20070227d1991 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование процессов формирования слоев нитрида кремния на Si (III) и Si (100) при облучении ионами азота низких энергий  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.07)  $f АН СССР, Дальневост. отд-ние, Ин-т автоматики и процессов управления 
210 # # $a Владивосток  $d 1991 
215 # # $a 17 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 15-17 
686 # # $a 01.04.07  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Котляр  $b В. Г.  $g Василий Григорьевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070227  $g psbo