Разработка технологии выращивания высокоомных эпитаксиальных слоев InP в системе Me3InOEt2-PH3-H2-FeCl3: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / АН СССР, Ин-т радиотехники и электроники

Сохранено в:
Шифр документа: 68910/89,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Кожин, В. В.
Опубликовано: М. , 1989
Физические характеристики: 21 с.
Язык: Русский
00000cam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr12282830000
005 20230406120502.0
100 # # $a 20070213d1989 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Разработка технологии выращивания высокоомных эпитаксиальных слоев InP в системе Me3InOEt2-PH3-H2-FeCl3  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (05.27.01)  $f АН СССР, Ин-т радиотехники и электроники 
210 # # $a М.  $d 1989 
215 # # $a 21 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 19-21 (12 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Кожин  $b В. В.  $g Валерий Васильевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070213  $g psbo