Математическое моделирование и оптимизация процесса экспонирования в электронно-лучевой литографии: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (05.27.01) / Ин т общей физики АН СССР

Сохранено в:
Шифр документа: 38493/87СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Ковтун, Б. Н.
Опубликовано: М. , 1987
Физические характеристики: 22 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr12241960000
005 20070213141309.0
100 # # $a 20070213d1987 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Математическое моделирование и оптимизация процесса экспонирования в электронно-лучевой литографии  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (05.27.01)  $f Ин т общей физики АН СССР 
210 # # $a М.  $d 1987 
215 # # $a 22 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 21-22 (13 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Ковтун  $b Б. Н.  $g Борис Николаевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070213  $g psbo