Электронные процессы и их влияние на формирование и свойства слоев SiO2 на кремнии: (01.04.10): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / ЛГУ
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Климов, И. В. |
| Опубликовано: | Л. , 1989 |
| Физические характеристики: |
17 с.
|
| Язык: | Русский |
| 00000cam0a22000001ia4500 | |||
| 001 | BY-NLB-rr12090050000 | ||
| 005 | 20230914123442.0 | ||
| 021 | # | # | $a RU $b [89-5083а] |
| 100 | # | # | $a 20070208d1989 y0rusy50 ||||ca |
| 101 | 0 | # | $a rus |
| 102 | # | # | $a RU |
| 200 | 1 | # | $a Электронные процессы и их влияние на формирование и свойства слоев SiO2 на кремнии $e (01.04.10) $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук $f ЛГУ |
| 210 | # | # | $a Л. $d 1989 |
| 215 | # | # | $a 17 с. |
| 300 | # | # | $a Библиогр.: с. 15-17 (12 назв.) |
| 686 | # | # | $a 01.04.10 $2 oksvnk |
| 700 | # | 1 | $a Климов $b И. В. $g Игорь Викторович |
| 801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070208 $g psbo |