Электронные процессы и их влияние на формирование и свойства слоев SiO2 на кремнии: (01.04.10): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / ЛГУ
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Климов, И. В. |
| Опубликовано: | Л. , 1989 |
| Физические характеристики: |
17 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||