Изовалентное легирование: управление электронными свойствами слоев GaAs и GaSb путем воздействия на систему примесей, точечных дефектов и наноразмерных кластеров: Дис. на соиск. учен. степ. д-ра физ.-мат. наук в форме науч. докл.: 01.04.10 / Рос. АН, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф.Иоффе

Сохранено в:
Шифр документа: 2Ад33139,
Вид документа: Диссертации
Автор: Чалдышев, В. В.
Опубликовано: СПб. , 1999
Физические характеристики: 51 c.
Язык: Русский
Предмет:
00000cam0a22000004id4500
001 BY-NLB-br176689
005 20130829140929.0
100 # # $a 19990331d1999 u y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
105 # # $a a m 001 y 
109 # # $a ab  $a aa 
200 1 # $a Изовалентное легирование: управление электронными свойствами слоев GaAs и GaSb путем воздействия на систему примесей, точечных дефектов и наноразмерных кластеров  $e Дис. на соиск. учен. степ. д-ра физ.-мат. наук в форме науч. докл.  $e 01.04.10  $f Рос. АН, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф.Иоффе 
210 # # $a СПб.  $d 1999 
215 # # $a 51 c. 
300 # # $a Библиогр.: с. 46-51 
606 0 # $3 BY-NLB-ar39092  $a ЭЛЕКТРОННЫЕ СВОЙСТВА  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar25538  $a ПРИМЕСИ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar13524  $a КЛАСТЕРЫ (хим.)  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar24594  $a ПОЛУПРОВОДНИКИ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar6882  $a АРСЕНИД ГАЛЛИЯ   $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar12159  $a ІОННАЯ ІМПЛАНТАЦЫЯ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar39093  $a ЭЛЕКТРОННЫЯ ЎЛАСЦІВАСЦІ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar25539  $a ПРЫМЕСІ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar24595  $a ПАЎПРАВАДНІКІ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar6883  $a АРСЕНІД ГАЛІЮ   $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar12158  $a ИОННАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar13525  $a КЛАСТАРЫ (хім.)  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-br2203367  $a ТОЧЕЧНЫЕ ДЕФЕКТЫ  $2 DVNLB 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $3 BY-SEK-457777  $a Чалдышев  $b В. В.  $g Владимир Викторович 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 19990331  $g psbo 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20060316  $g psbo