Исследование особенностей воздействия ионного облучения на свойства полимерных масок в процессах микроструктурирования: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: 05.27.01 / Рос. АН, Ин-т проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов

Сохранено в:
Шифр документа: 2Ад25860,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Коваль, Ю. И.
Опубликовано: Черноголовка , 1993
Физические характеристики: 20 с.
Язык: Русский
00000cam0a22000004ia4500
001 BY-NLB-br164604
005 20070615190621.1
100 # # $a 19970613d1993 u y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
105 # # $a y m 001yy 
109 # # $a ac  $a aa 
200 1 # $a Исследование особенностей воздействия ионного облучения на свойства полимерных масок в процессах микроструктурирования  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e 05.27.01  $f Рос. АН, Ин-т проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов 
210 # # $a Черноголовка  $d 1993 
215 # # $a 20 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 18-20 (12 назв.) 
686 # # $a 47.33.33  $2 rugasnti 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $3 BY-SEK-440134  $a Коваль  $b Ю. И.  $g Юрий Иванович 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 19970613  $g psbo 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20060316  $g psbo