Моделирование процесса доставки материала к подложке при ионно-плазменном распылении ВТСП / Ф. А. Чудновский Б. Ш. Элькин, А. А. Фурсенко и др.

Сохранено в:
Шифр документа: 449253,
Вид документа: Книги
Опубликовано: Ленинград : ФТИ , 1990
Физические характеристики: 29 с. : ил. ; 20 см.
Язык: Английский
Серия: Препринт № 1486
00000cam0a22000003ib4500
001 BY-NLB-br0001346877
005 20161227114644.0
010 # # $d Б. ц. 
100 # # $a 20161227d1990 |||||bel|50 ca 
101 0 # $a eng 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Моделирование процесса доставки материала к подложке при ионно-плазменном распылении ВТСП  $d Simulation of target to substrate material transport during ion sputtering of HIGH-Tc materials  $f Ф. А. Чудновский Б. Ш. Элькин, А. А. Фурсенко и др. 
210 # # $a Ленинград  $c ФТИ  $d 1990 
215 # # $a 29 с.  $c ил.  $d 20 см. 
225 1 # $a Препринт  $v № 1486 
300 # # $a Библиогр.: с. 26 - 29 (33 назв.); на англ. яз. 
345 # # $9 200 экз. 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20161227  $g psbo