Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев GaN, InxGa1-xN и AlxGa1-xN методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений для светоизлучающих структур: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук: 05.27.06 / Ермошин Иван Геннадьевич

Захавана ў:
Шифр документа: 2//69592(039),
Тып дакумента: Аўтарэфераты дысертацый
Аўтар: Ермошин, И. Г.
Апублікавана: Москва , 2009
Фізіч. характарыстыкі: 20 с. : ил.
Мова: Руская
Прадмет:
00000cam0a2200000 ia4500
001 BY-NLB-br0000411116
005 20211213160531.0
100 # # $a 20091022d2009 k y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a m 000yy 
109 # # $a ac  $a aa 
200 1 # $a Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев GaN, InxGa1-xN и AlxGa1-xN методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений для светоизлучающих структур  $e автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук  $e 05.27.06  $f Ермошин Иван Геннадьевич  $g [Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", ЗАО "Элма-Малахит", ДО ОАО "Концерн Энергомера"] 
210 # # $a Москва  $d 2009 
215 # # $a 20 с.  $c ил. 
320 # # $a Библиография: с. 20 (11 назв.) 
606 0 # $3 BY-NLB-ar39622  $a ЭПИТАКСИЯ (физ.)  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar7368  $a ГЕТЕРОСТРУКТУРЫ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar58871  $a СВЕТОДИОДЫ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar32980  $a ТВЕРДЫЕ РАСТВОРЫ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar27159  $a РАДИОЭЛЕКТРОННАЯ ПРОМЫШЛЕННОСТЬ  $2 DVNLB 
686 # # $a 05.27.06  $2 oksvnk 
686 # # $a 47.13  $v 6  $2 rugasnti 
686 # # $a 47.33.33  $v 6  $2 rugasnti 
700 # 1 $a Ермошин  $b И. Г.  $g Иван Геннадьевич 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20091022  $g psbo