Особенности лазерноиндуцированного дефектообразования в приповерхностных слоях полупроводников A³B⁵ [[Микроформа]]: Дис. ... канд. физ.-мат. наук: Утв. 18.10.89: (01.04.10)

Сохранено в:
Шифр документа: 0489008239,
Вид документа: Диссертации
Автор: Ефимова, А. И.
Опубликовано: М. , 1988
Физические характеристики: 153 с. : ил.
Язык: Русский
00000nbm0a22000001id4500
001 BY-NLB-rr41239380000
005 20080219121527.0
100 # # $a 20080219d1988 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Особенности лазерноиндуцированного дефектообразования в приповерхностных слоях полупроводников A³B⁵  $b [Микроформа]  $e Дис. ... канд. физ.-мат. наук  $e Утв. 18.10.89  $e (01.04.10) 
210 # # $a М.  $d 1988 
215 # # $a 153 с.  $c ил. 
300 # # $a Библиогр.: с. 139-153 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Ефимова  $b А. И.  $g Александра Ивановна 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20080219  $g psbo