Электрофизические свойства имплантированных кремниевых структур со скрытыми дефектными слоями: (01.04.10): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / АН УССР, Ин-т полупроводников

Сохранено в:
Шифр документа: 57220/87,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Гелашвили, Н. А.
Опубликовано: Киев , 1987
Физические характеристики: 15 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr33249590000
005 20070718130646.0
021 # # $a RU  $b [87-9782а] 
100 # # $a 20070718d1987 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UA 
200 1 # $a Электрофизические свойства имплантированных кремниевых структур со скрытыми дефектными слоями  $e (01.04.10)  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $f АН УССР, Ин-т полупроводников 
210 # # $a Киев  $d 1987 
215 # # $a 15 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 14-15 (9 назв.) 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Гелашвили  $b Н. А.  $g Нодари Александрович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070718  $g psbo