Исследование физических свойств и разработка технологии отслаиваемых эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений A³B⁵: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.10)

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ465457СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Турсунов, М. Н.
Опубликовано: Ташкент , 1982
Физические характеристики: 18 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr32461480000
005 20070710151849.0
100 # # $a 20070710d1982 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UZ 
200 1 # $a Исследование физических свойств и разработка технологии отслаиваемых эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений A³B⁵  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.10) 
210 # # $a Ташкент  $d 1982 
215 # # $a 18 с. 
300 # # $a В надзаг.: АН УзССР, Физ.-техн. ин-т им. С. В. Стародубцева. Библиогр.: с. 16-18. Для служеб. пользования 
675 # # $a 621.315.592:621.382 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Турсунов  $b М. Н.  $g Мухаммад Нишанович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070710  $g psbo