Исследование условий низкотемпературной эпитаксии твердых растворов Si{н.инд.}(1-x)Ge{н.инд.}(x), (Ge2){н.инд.}(x) (GaAs){н.инд.}(1-x) и Si-Si{н.инд.}(1-x)Ge{н.инд.}(x)-GaAs (0≤X≤1) структур из раствора-расплава: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.10) / АН ТССР, Физ.-техн. ин-т
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Сапаев, Б. |
| Опубликовано: | Ашхабад , 1990 |
| Физические характеристики: |
20 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||