Исследование процессов плазмохимического осаждения и травления диэлектрических пленок SiO₂ и BN: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ381739СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Савельев, А. А.
Опубликовано: М. , 1980
Физические характеристики: 29 с.
Язык: Русский
00000cam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr29923850000
005 20210331105138.0
100 # # $a 20070611d1980 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование процессов плазмохимического осаждения и травления диэлектрических пленок SiO₂ и BN  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.12.18) 
210 # # $a М.  $d 1980 
215 # # $a 29 с. 
300 # # $a В надзаг.: Моск. ин-т электронной техники. Библиогр.: с. 27-29 (18 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.12.18  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Савельев  $b А. А.  $g Александр Александрович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070611  $g psbo