Моделирование электронно-литографического процесса экспонирования полимерных резистов / К. А. Валиев, А. Н. Кириллов, Б. Н. Ковтун, Т. М. Махвиладзе и др.

Сохранено в:
Шифр документа: 103628,
Вид документа: Книги
Опубликовано: М. , 1985
Физические характеристики: 34 с. : рис.
Язык: Русский
Серия: Физика твердого тела. Препр. № 113
Предмет:
00000cam0a22000001ib4500
001 BY-NLB-rr23323120000
005 20160519132002.0
010 # # $d Б. ц. 
021 # # $a RU  $b [86-14843] 
100 # # $a 20071112d1985 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Моделирование электронно-литографического процесса экспонирования полимерных резистов  $f К. А. Валиев, А. Н. Кириллов, Б. Н. Ковтун, Т. М. Махвиладзе и др.  $g АН СССР. Ин-т общ. физики. Лаб. микроэлектроники 
210 # # $a М.  $d 1985 
215 # # $a 34 с.  $c рис. 
225 2 # $a Физика твердого тела. Препр.  $v № 113 
300 # # $a Библиогр.: с. 22 (14 назв.) 
345 # # $9 100 экз. 
610 0 # $a Электроны 
610 0 # $a Монте - Карло метод 
675 # # $a 655.342.002.5:621.382.049.7 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20071112  $g psbo