Лабораторный практикум по технологии и оборудованию полупроводникового производства / М-во высш. и сред. спец. образования РСФСР. Моск. ин-т электронного машиностроения.... Пленарная технология: окисление, диффузия, фотолитография
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Физические характеристики: |
193 с. : черт.
|
| Язык: | Русский |
| 00000nam2a22000001ib4500 | |||
| 001 | BY-NLB-rr22469020002 | ||
| 005 | 20071112154704.0 | ||
| 010 | # | # | $d 24 к. |
| 021 | # | # | $a RU $b [72-87289] |
| 100 | # | # | $a 20071112f y0rusy50 ca |
| 101 | 0 | # | $a rus |
| 200 | 0 | # | $a Пленарная технология: окисление, диффузия, фотолитография |
| 215 | # | # | $a 193 с. $c черт. |
| 300 | # | # | $a Список лит.: с. 192 (5 назв.) |
| 345 | # | # | $9 500 экз. |
| 461 | # | 0 | $1 001BY-NLB-rr22469020000 $1 2000 $v Разд. 2 |
| 675 | # | # | $a 621.382.002+621.382.002.5](076.5) |
| 801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20071112 $g psbo |
| 830 | # | # | $a АН776979; |