Ионно-плазменные процессы в технологии микроэлектроники

Сохранено в:
Шифр документа: МФ5431,
Вид документа: Книги
Опубликовано: Вильнюс , 1982
Физические характеристики: 142 с. : ил.
Язык: Русский
Серия: Темат. сб. науч. тр. высш. учеб. заведений ЛитССР
Предмет:
00000nam0a22000001ib4500
001 BY-NLB-rr21814640000
005 20071005150938.0
010 # # $d 1 р. 
100 # # $a 20071005d1982 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a LT 
200 1 # $a Ионно-плазменные процессы в технологии микроэлектроники 
210 # # $a Вильнюс  $d 1982 
215 # # $a 142 с.  $c ил. 
225 2 # $a Темат. сб. науч. тр. высш. учеб. заведений ЛитССР  $f Каунас. политехн. ин-т им. Антанаса Снечкуса 
300 # # $a Тит. л. парал. рус., лит. - Библиогр. в конце ст. 
345 # # $9 500 экз. 
610 0 # $a Плазменная обработка 
610 0 # $a Микроэлектроника 
675 # # $a 621.382.002:621.7/9.048.7 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20071005  $g psbo