Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резистивных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.13) / Моск. авиац. технол. ин-т им. К. Э. Циолковского
Saved in:
| Format: | |
|---|---|
| Main Author: | Шапиро, А. Г. |
| Published: | М. , 1991 |
| Physical Description: |
23 с.
|
| Language: | Russian |
ОФХ отдела книгохранения
| All : 1 , available: 1 | Available Place a Hold | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||