Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резистивных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.13) / Моск. авиац. технол. ин-т им. К. Э. Циолковского
Захавана ў:
| Тып дакумента: | |
|---|---|
| Аўтар: | Шапиро, А. Г. |
| Апублікавана: | М. , 1991 |
| Фізіч. характарыстыкі: |
23 с.
|
| Мова: | Руская |
ОФХ отдела книгохранения
| Усяго : 1 , даступна: 1 | Даступна Замовіць | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||