Легирование эпитаксиальных слоев полупроводников

Сохранено в:
Шифр документа: АУ588797, М87299,
Вид документа: Книги
Автор: Харченко, В. В.
Опубликовано: Ташкент : Фан , 1979
Физические характеристики: 122 с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Предмет:
00000nam0a22000001ib4500
001 BY-NLB-rr17778960000
005 20070502151352.0
010 # # $d 1 р. 10 к. 
021 # # $a RU  $b [79-82455] 
100 # # $a 20070502d1979 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UZ 
200 1 # $a Легирование эпитаксиальных слоев полупроводников 
210 # # $a Ташкент  $c Фан  $d 1979 
215 # # $a 122 с.  $c ил.  $d 21 см 
300 # # $a В надзаг.: АН УзССР, Центр. проект.-конструкт. и технол. бюро науч. приборостроения. Библиогр.: с. 115-121 (221 назв.) 
345 # # $9 1000 экз. 
610 0 # $a Полупроводники - Легирование 
675 # # $a 621.315.592.002 
700 # 1 $a Харченко  $b В. В.  $g Валерий Владимирович 
701 # 1 $a Грейсух  $b М. Р.  $g Моисей Рувимович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070502  $g psbo