Исследование и моделирование технологического процесса ионно-плазменного напыления тонких проводящих и резистивных пленок с заданными свойствами: (05.12.13): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Павлыш, В. А. |
Опубликовано: | Л. , 1982 |
Физические характеристики: |
16 с. : граф.
|
Язык: | Русский |
00000nam0a22000001ia4500 | |||
001 | BY-NLB-rr17487570000 | ||
005 | 20070424174456.0 | ||
021 | # | # | $a RU $b [82-15516а] |
100 | # | # | $a 20070424d1982 y0rusy50 ca |
101 | 0 | # | $a rus |
102 | # | # | $a RU |
200 | 1 | # | $a Исследование и моделирование технологического процесса ионно-плазменного напыления тонких проводящих и резистивных пленок с заданными свойствами $e (05.12.13) $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук |
210 | # | # | $a Л. $d 1982 |
215 | # | # | $a 16 с. $c граф. |
300 | # | # | $a В надзаг.: Ленингр. электротехн. ин-т им. В. И. Ульянова (Ленина). Библиогр.: с. 16 (7 назв.) |
686 | # | # | $a 05.12.13 $2 oksvnk |
700 | # | 1 | $a Павлыш $b В. А. $g Владимир Андреевич |
801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070424 $g psbo |