Исследование и моделирование технологического процесса ионно-плазменного напыления тонких проводящих и резистивных пленок с заданными свойствами: (05.12.13): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ426697,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Павлыш, В. А.
Опубликовано: Л. , 1982
Физические характеристики: 16 с. : граф.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr17487570000
005 20070424174456.0
021 # # $a RU  $b [82-15516а] 
100 # # $a 20070424d1982 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование и моделирование технологического процесса ионно-плазменного напыления тонких проводящих и резистивных пленок с заданными свойствами  $e (05.12.13)  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук 
210 # # $a Л.  $d 1982 
215 # # $a 16 с.  $c граф. 
300 # # $a В надзаг.: Ленингр. электротехн. ин-т им. В. И. Ульянова (Ленина). Библиогр.: с. 16 (7 назв.) 
686 # # $a 05.12.13  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Павлыш  $b В. А.  $g Владимир Андреевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070424  $g psbo