Исследование неоднородности тонких слоев полупроводниковых материалов методом реакционной вторичной ионно-ионной эмиссии: (01.04.10): Автореф. дис. на соиск. учен. степени канд. техн. наук / Моск. ин-т стали и сплавов
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Орлов, П. Б. |
Опубликовано: | М. , 1977 |
Физические характеристики: |
20 с. : граф.
|
Язык: | Русский |
00000nam0a22000001ia4500 | |||
001 | BY-NLB-rr17291480000 | ||
005 | 20070424173529.0 | ||
021 | # | # | $a RU $b [77-2244а] |
100 | # | # | $a 20070424d1977 y0rusy50 ca |
101 | 0 | # | $a rus |
102 | # | # | $a RU |
200 | 1 | # | $a Исследование неоднородности тонких слоев полупроводниковых материалов методом реакционной вторичной ионно-ионной эмиссии $e (01.04.10) $e Автореф. дис. на соиск. учен. степени канд. техн. наук $f Моск. ин-т стали и сплавов |
210 | # | # | $a М. $d 1977 |
215 | # | # | $a 20 с. $c граф. |
300 | # | # | $a Список работ авт. в конце текста (9 назв.) |
686 | # | # | $a 01.04.10 $2 oksvnk |
700 | # | 1 | $a Орлов $b П. Б. $g Павел Борисович |
801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070424 $g psbo |