Исследование имплантационных профилей и процесса диффузии внедренных ионов методом вторичного ионного микроанадиза: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)
Zapisane w:
| Format: | |
|---|---|
| 1. autor: | Мюллер, Г. |
| Wydane: | Киев , 1978 |
| Opis fizyczny: |
24 с.
|
| Język: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Dostępne Zamów | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||