Исследование имплантационных профилей и процесса диффузии внедренных ионов методом вторичного ионного микроанадиза: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Мюллер, Г. |
| Опубликовано: | Киев , 1978 |
| Физические характеристики: |
24 с.
|
| Язык: | Русский |
| 00000nam0a22000001ia4500 | |||
| 001 | BY-NLB-rr16405070000 | ||
| 005 | 20070412164509.0 | ||
| 100 | # | # | $a 20070412d1978 y0rusy50 ca |
| 101 | 0 | # | $a rus |
| 102 | # | # | $a UA |
| 200 | 1 | # | $a Исследование имплантационных профилей и процесса диффузии внедренных ионов методом вторичного ионного микроанадиза $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук $e (05.12.18) |
| 210 | # | # | $a Киев $d 1978 |
| 215 | # | # | $a 24 с. |
| 300 | # | # | $a В надзаг.: Киев. политехн. ин-т им. 50-летия Великой Окт. соц. революции. 3-д телевизион. электроники, Берлин. Библиогр.: с. 22-24 (12 назв.) |
| 686 | # | # | $a 05.12.18 $2 oksvnk |
| 700 | # | 1 | $a Мюллер $b Г. $g Готтфрид |
| 801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070412 $g psbo |