Физико-технические основы промышленной технологии эпитаксиальных структур фосфида галлия: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.27.06) / АН УССР, Ин-т полупроводников

Сохранено в:
Шифр документа: 3979/86СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Макаренко, В. Г.
Опубликовано: Киев , 1986
Физические характеристики: 16 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr14876560000
005 20070327172350.0
100 # # $a 20070327d1986 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UA 
200 1 # $a Физико-технические основы промышленной технологии эпитаксиальных структур фосфида галлия  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.27.06)  $f АН УССР, Ин-т полупроводников 
210 # # $a Киев  $d 1986 
215 # # $a 16 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 13-16 (25 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.27.06  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Макаренко  $b В. Г.  $g Виктор Григорьевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070327  $g psbo