Электропроводность и деградационные процессы в формованной тонкопленочной структуре металл-диэлектрик-металл на основе оксинитрида кремния: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.10) / Дом. гос. ун-т им. В. В. Куйбышева

Сохранено в:
Шифр документа: 15587/86СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Лубсанов, Р. Б.
Опубликовано: Томск , 1986
Физические характеристики: 20 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr14578790000
005 20070402161847.0
100 # # $a 20070402d1986 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Электропроводность и деградационные процессы в формованной тонкопленочной структуре металл-диэлектрик-металл на основе оксинитрида кремния  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.10)  $f Дом. гос. ун-т им. В. В. Куйбышева 
210 # # $a Томск  $d 1986 
215 # # $a 20 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 19-20 (14 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Лубсанов  $b Р. Б.  $g Ринчин Балданович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070402  $g psbo