Кинетика формирования и свойства эпитаксиальных слоев арсенида галлия, выращенных МОС-гидридным методом, на подложках GaAs, подвергнутых облучению ионами аргона и лазерной плазмой мышьяка: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.07) / АН СССР, Урал. отдние, Физ.-техн. ин-т

Сохранено в:
Шифр документа: 32909/87СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Краснов, А. А.
Опубликовано: Ижевск , 1987
Физические характеристики: 24 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr13104120000
005 20070227162116.0
100 # # $a 20070227d1987 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Кинетика формирования и свойства эпитаксиальных слоев арсенида галлия, выращенных МОС-гидридным методом, на подложках GaAs, подвергнутых облучению ионами аргона и лазерной плазмой мышьяка  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.07)  $f АН СССР, Урал. отдние, Физ.-техн. ин-т 
210 # # $a Ижевск  $d 1987 
215 # # $a 24 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 22-24 (15 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.07  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Краснов  $b А. А.  $g Александр Артемьевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070227  $g psbo