Влияние собственных точечных дефектов и водорода на свойства приповерхностных слоев полупроводников в условиях ионно-плазменной обработки: (05.27.01): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов

Сохранено в:
Шифр документа: 157711/92,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Ковешников, С. В.
Опубликовано: пос. Черноголовка (Моск. обл.) , 1992
Физические характеристики: 18 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr12235800000
005 20070213141309.0
021 # # $a RU  $b [92-5301а] 
100 # # $a 20070213d1992 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Влияние собственных точечных дефектов и водорода на свойства приповерхностных слоев полупроводников в условиях ионно-плазменной обработки  $e (05.27.01)  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $f Рос. акад. наук, Ин-т пробл. технологии микроэлектроники и особочистых материалов 
210 # # $a пос. Черноголовка (Моск. обл.)  $d 1992 
215 # # $a 18 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 16-18 (18 назв.) 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Ковешников  $b С. В.  $g Сергей Викторович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070213  $g psbo