Оптимизация процесса производства кремниевых эпитаксиальных структур со скрытыми диффузионными слоями с использованием анизотропии роста: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.17.16)
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Кирюхин, В. А. |
| Опубликовано: | М. , 1983 |
| Физические характеристики: |
22 с.
|
| Язык: | Русский |
| 00000nam0a22000001ia4500 | |||
| 001 | BY-NLB-rr11983420000 | ||
| 005 | 20070207134535.0 | ||
| 100 | # | # | $a 20070207d1983 y0rusy50 ca |
| 101 | 0 | # | $a rus |
| 102 | # | # | $a RU |
| 200 | 1 | # | $a Оптимизация процесса производства кремниевых эпитаксиальных структур со скрытыми диффузионными слоями с использованием анизотропии роста $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук $e (05.17.16) |
| 210 | # | # | $a М. $d 1983 |
| 215 | # | # | $a 22 с. |
| 300 | # | # | $a В надзаг.: Моск. ин-т электрон. техники. Библиогр.: с. 21-22 (6 назв.). Для служ. пользования |
| 675 | # | # | $a 539.236.2:546.28 |
| 686 | # | # | $a 05.17.16 $2 oksvnk |
| 700 | # | 1 | $a Кирюхин $b В. А. $g Валерий Алексеевич |
| 801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070207 $g psbo |