Разработка и исследование тонкослойных регистрирующих сред на основе реакций сенсибилизированного фотоокисления в полимерных матрицах: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.05) / Гос. опт. ин-т им. С. И. Вавилова

Сохранено в:
Шифр документа: 89452/89СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Кавтрев, А. Ф.
Опубликовано: Л. , 1989
Физические характеристики: 16 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr11250580000
005 20070118200848.0
100 # # $a 20070118d1989 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Разработка и исследование тонкослойных регистрирующих сред на основе реакций сенсибилизированного фотоокисления в полимерных матрицах  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.05)  $f Гос. опт. ин-т им. С. И. Вавилова 
210 # # $a Л.  $d 1989 
215 # # $a 16 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 15-16 (10 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.05  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Кавтрев  $b А. Ф.  $g Александр Федорович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070118  $g psbo