Исследование и разработка технологии и способов получения подложек и эпитаксиальных слоев полупроводниковых материалов с высоким структурным совершенством: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра техн. наук: (05.17.16) / Моск. ин-т стали и сплавов

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ497423СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Захаров, Б. Г.
Опубликовано: М. , 1984
Физические характеристики: 35 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr10496950000
005 20061208172034.0
100 # # $a 20061208d1984 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование и разработка технологии и способов получения подложек и эпитаксиальных слоев полупроводниковых материалов с высоким структурным совершенством  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра техн. наук  $e (05.17.16)  $f Моск. ин-т стали и сплавов 
210 # # $a М.  $d 1984 
215 # # $a 35 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 31-35 (47 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.17.16  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Захаров  $b Б. Г.  $g Борис Георгиевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20061208  $g psbo