Исследование и разработка технологии и способов получения подложек и эпитаксиальных слоев полупроводниковых материалов с высоким структурным совершенством: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра техн. наук: (05.17.16) / Моск. ин-т стали и сплавов
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Захаров, Б. Г. |
Опубликовано: | М. , 1984 |
Физические характеристики: |
35 с.
|
Язык: | Русский |
00000nam0a22000001ia4500 | |||
001 | BY-NLB-rr10496950000 | ||
005 | 20061208172034.0 | ||
100 | # | # | $a 20061208d1984 y0rusy50 ca |
101 | 0 | # | $a rus |
102 | # | # | $a RU |
200 | 1 | # | $a Исследование и разработка технологии и способов получения подложек и эпитаксиальных слоев полупроводниковых материалов с высоким структурным совершенством $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра техн. наук $e (05.17.16) $f Моск. ин-т стали и сплавов |
210 | # | # | $a М. $d 1984 |
215 | # | # | $a 35 с. |
300 | # | # | $a Библиогр.: с. 31-35 (47 назв.). Для служеб. пользования |
686 | # | # | $a 05.17.16 $2 oksvnk |
700 | # | 1 | $a Захаров $b Б. Г. $g Борис Георгиевич |
801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20061208 $g psbo |