Процесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СВИС ЗУ на ЦМД: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: 05.27.01 / Моск. инж.-физ. ин-т

Сохранено в:
Шифр документа: 2Ад25855,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Островерх, В. А.
Опубликовано: М. , 1993
Физические характеристики: 20 с.
Язык: Русский
00000cam0a22000004ia4500
001 BY-NLB-br164599
005 20070615190620.3
100 # # $a 19970613d1993 u y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
105 # # $a y m 001yy 
109 # # $a ac  $a aa 
200 1 # $a Процесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СВИС ЗУ на ЦМД  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e 05.27.01  $f Моск. инж.-физ. ин-т 
210 # # $a М.  $d 1993 
215 # # $a 20 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 19-20 (11 назв.) Для служеб. пользования 
686 # # $a 47.33.33  $2 rugasnti 
686 # # $a 05.27.01  $2 oksvnk 
700 # 1 $3 BY-SEK-440000  $a Островерх  $b В. А.  $g Виталий Анатольевич 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 19970613  $g psbo 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20060316  $g psbo