Эпитаксиальный рост тонких пленок силицидов: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1965―1985 гг.) / Б. К. Богомолов

Сохранено в:
Шифр документа: 195663-5,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Богомолов, Б. К.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1986
Физические характеристики: 57 с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1986, вып. 5
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001487632
005 20180823133527.0
100 # # $a 20180823d1986 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Эпитаксиальный рост тонких пленок силицидов  $e (по данным отечественной и зарубежной печати за 1965―1985 гг.)  $f Б. К. Богомолов 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1986 
215 # # $a 57 с.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 6  $i Материалы  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1986, вып. 5 
320 # # $a Библиография: с. 52―57 (67 назв.) 
345 # # $9 1650 экз. 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br78456  $1 2001   $v 1986, вып. 5 
700 # 1 $a Богомолов  $b Б. К.  $g Борис Константинович 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20180823  $g psbo