Современное состояние исследований механизма роста эпитаксиальных слоев кремния и соединений АIII BV из газовой фазы. Ч. 1: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1968―1982 гг.) / С. С. Стрельченко, А. А. Матяш

Сохранено в:
Шифр документа: 191244-5,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Стрельченко, С. С.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1984
Физические характеристики: 36, [1] с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1984, вып. 5
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001480052
005 20180628100031.0
100 # # $a 20180628d1984 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Современное состояние исследований механизма роста эпитаксиальных слоев кремния и соединений АIII BV из газовой фазы. Ч. 1  $i Элементарные процессы на поверхности монокристаллов, растущих из газовой фазы  $e (по данным отечественной и зарубежной печати за 1968―1982 гг.)  $f С. С. Стрельченко, А. А. Матяш 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1984 
215 # # $a 36, [1] с.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 6  $i Материалы  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1984, вып. 5 
320 # # $a Библиография: с. 31―37 (102 назв.) 
345 # # $a 1580 экз. 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br78456  $1 2001   $v 1984, вып. 5 
700 # 1 $a Стрельченко  $b С. С.  $g Станислав Сергеевич 
701 # 1 $a Матяш  $b А. А.  $g Александр Андреевич 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20180628  $g psbo