Радиационно-стимулированная диффузия примесей в полупроводниках / В. В. Козловский, В. Н. Ломасов
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Козловский, В. В. (род. 1955) |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1985 |
| Физические характеристики: |
56 с. : ил. ; 21 см
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
1985, вып. 9 |
Загрузка