Системный подход при проектировании автоматических линий для промышленных фотолитографических комплексов: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1965―1981 гг.) / В. В. Степанов, В. В. Сысоев
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Степанов, В. В. |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1981 |
| Физические характеристики: |
40 с. : ил. ; 21 см
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
1981, вып. 21 |
Загрузка