Системный подход при проектировании автоматических линий для промышленных фотолитографических комплексов: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1965―1981 гг.) / В. В. Степанов, В. В. Сысоев

Сохранено в:
Шифр документа: 173663-21,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Степанов, В. В.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1981
Физические характеристики: 40 с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1981, вып. 21
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001467033
005 20180503101105.0
100 # # $a 20180503d1981 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Системный подход при проектировании автоматических линий для промышленных фотолитографических комплексов  $e (по данным отечественной и зарубежной печати за 1965―1981 гг.)  $f В. В. Степанов, В. В. Сысоев 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1981 
215 # # $a 40 с.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 7  $i Технология, организация производства и оборудование  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1981, вып. 21 
320 # # $a Библиография: с. 38―40 (38 назв.) 
345 # # $a 1820 экз. 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br119311  $1 2001   $v 1981, вып. 21 
700 # 1 $3 BY-SEK-280612  $a Степанов  $b В. В. 
701 # 1 $3 BY-SEK-262091  $a Сысоев  $b В. В. 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20180503  $g psbo